Cena? Prawdopodobnie najniższa

Bezpieczne płatności internetowe

Bezproblemowy zwrot do 14 dni

Przejdź do sekcji Opinie

Producent: K&F Concept (przejdź do produktów)

Filtr polaryzacyjny CPL K&F Concept Nano-X ULR MRC 55 mm (KF01.2475)

K&F Concept Nano-X ULR MRC 55 mm filtr polaryzacyjny CPL pomaga Ci ograniczyć odbicia od wody, szkła i innych powierzchni niemetalicznych oraz poprawić kontrast i nasycenie kolorów. Współczynnik odbicia 0,1% ogranicza dodatkowe refleksy i efekt halo, wspierając uzyskanie bardziej czytelnego obrazu. Filtr ma średnicę 55 mm, transmisję światła 45% oraz dwustronne, 28-warstwowe powłoki odporne na wodę, olej, kurz i zarysowania. Smukła ramka o grubości 5,3 mm zachowuje możliwość obrotu, dzięki czemu możesz precyzyjnie regulować efekt polaryzacji.

Przejdź do pełnego opisu

134,99 zł

Wkrótce w sprzedaży

Weź w leasing

% Luneta obserwacyjna Vortex Crossfire HD 20-60x80 skośna

1 290,00 zł

Cena regularna: 1 445,00 zł

-10%

Dodaj W zestawie
Aparat Canon PowerShot G7 X Mark III czarny

Cena 4 984,00 zł

Dodaj W zestawie
% Kolimator Vortex Razor AMG UH-1 Gen II

2 797,00 zł

Cena regularna: 2 899,00 zł

-3%

Dodaj W zestawie
Latarka czołowa Fenix HM70R

Cena 339,00 zł

Dodaj W zestawie

Suma dodatkowych produktów: 0.00 zł

How does it work?

Zapytaj o produkt

Dostawa

od 0,00 zł - DPD Pickup (automat paczkowy | punkt odbioru) (Polska)

Udostępnij

Dlaczego my?

Eksperckie wsparcie: Zapewniamy profesjonalne, indywidualne doradztwo oparte na wieloletniej wiedzy i pasji naszego zespołu, pomagając Ci dobrać sprzęt idealnie dopasowany do Twoich potrzeb.
Zaufanie i tradycja: Jesteśmy polską firmą rodzinną działającą od 2006 roku, co daje Ci gwarancję bezpiecznych zakupów u sprawdzonego partnera, któremu zaufały tysiące klientów i instytucji.
Autoryzowana jakość: Jako autoryzowany sprzedawca wiodących światowych marek, oferujemy wyłącznie oryginalny sprzęt fotograficzny i optyczny najwyższej klasy oraz dostęp do nowości technologicznych.
Indywidualne podejście: Realizujemy nawet najbardziej nietypowe zamówienia, sprowadzając sprzęt trudnodostępny na rynku i tworząc oferty „szyte na miarę” Twoich unikalnych oczekiwań.

K&F Concept Nano-X ULR MRC 55 mm – filtr polaryzacyjny CPL (KF01.2475)

K&F Concept Nano-X ULR MRC 55 mm filtr polaryzacyjny CPL jest przeznaczony dla Ciebie, jeśli chcesz ograniczać odbicia i poprawiać kontrast fotografowanej sceny już podczas wykonywania zdjęcia. Model KF01.2475 redukuje refleksy od powierzchni niemetalicznych, takich jak woda i szkło, a producent deklaruje eliminację 99,9% światła spolaryzowanego. Współczynnik odbicia wynosi 0,1%, natomiast transmisja światła 45%. Element optyczny wykonano ze szkła AGC i wyposażono w dwustronne, 28-warstwowe powłoki ochronne. Wariant 55 mm jest przeznaczony do obiektywów z odpowiadającym mu gwintem filtrowym.

Współczynnik odbicia 0,1% pomaga ograniczyć dodatkowe refleksy optyczne i efekt halo.
Eliminacja 99,9% światła spolaryzowanego wspiera redukcję odbić od wody, szkła i innych powierzchni niemetalicznych.
Transmisja światła 45% jest wartością deklarowaną przez producenta dla modelu KF01.2475.
Dwustronne powłoki 28-warstwowe zapewniają odporność na wodę, olej, kurz i zarysowania.
Ramka o grubości 5,3 mm zachowuje możliwość obrotu potrzebną do regulowania polaryzacji.

K&F Concept Nano-X ULR MRC 55 mm do krajobrazu

Filtr CPL 55 mm do fotografii krajobrazowej pomaga Ci kontrolować odbicia pojawiające się na wodzie, mokrej roślinności i szklanych powierzchniach. Obracając filtr, możesz dopasować stopień polaryzacji do kierunku światła oraz wybranego kadru. K&F Concept Nano-X ULR MRC 55 mm może jednocześnie zwiększyć kontrast i nasycenie kolorów, co przydaje się podczas fotografowania nieba, zieleni i tafli wody. Intensywność efektu zależy od ustawienia aparatu względem światła, dlatego rezultat najlepiej kontrolować bezpośrednio w wizjerze lub na ekranie.

K&F Concept Nano-X ULR MRC 55 mm i redukcja odbić

Filtr polaryzacyjny do zdjęć przez szkło przydaje się wtedy, gdy odbicia utrudniają pokazanie obiektu znajdującego się za szybą lub pod powierzchnią wody. Producent deklaruje eliminację 99,9% światła spolaryzowanego, co pomaga ograniczać refleksy od powierzchni niemetalicznych. Model KF01.2475 możesz wykorzystać przy fotografowaniu witryn, przeszklonej architektury, samochodów czy krajobrazów nad wodą. Filtr CPL nie redukuje w taki sam sposób odbić od powierzchni metalowych.

Ultraniski współczynnik odbicia 0,1%

Filtr CPL o współczynniku odbicia 0,1% został zaprojektowany z myślą o ograniczaniu dodatkowych refleksów powstających na powierzchniach optycznych. Według producenta niski poziom odbicia pomaga redukować efekt halo oraz wspiera zachowanie kontrastu i widoczności detali. Deklarowana transmisja światła wynosi 45%. Takie właściwości są szczególnie przydatne podczas fotografowania scen o dużym kontraście i w warunkach sprzyjających powstawaniu niepożądanych odbić.

K&F Concept Nano-X ULR MRC 55 mm z 28 powłokami

Filtr polaryzacyjny z powłokami ochronnymi sprawdzi się podczas pracy w plenerze, gdzie szkło może być narażone na wilgoć, kurz i ślady palców. Dwustronne, 28-warstwowe powłoki zapewniają odporność na wodę, olej, kurz i zarysowania, a element optyczny wykonano ze szkła AGC. Ułatwia Ci to utrzymanie filtra w czystości podczas podróży, fotografowania nad wodą czy pracy przy zmiennej pogodzie. Do pielęgnacji nadal warto stosować akcesoria przeznaczone do czyszczenia optyki.

Smukła ramka 5,3 mm i precyzyjna regulacja

Cienki filtr CPL 55 mm do obiektywu szerokokątnego pomaga ograniczyć ryzyko pojawienia się oprawy filtra w narożnikach kadru. Ramka ma 5,3 mm grubości i według producenta została przygotowana do pracy zarówno z obiektywami szerokokątnymi, jak i teleobiektywami. Zachowana możliwość obrotu pozwala Ci regulować stopień polaryzacji bez zdejmowania filtra z obiektywu. Ramkę wykonano z lekkiego stopu aluminiowo-magnezowego.

Kompatybilność

Obiektywy z gwintem filtrowym 55 mm

Specyfikacja techniczna K&F Concept Nano-X ULR MRC 55 mm

Rodzaj filtra: polaryzacyjny kołowy CPL
Średnica filtra: 55 mm
Współczynnik odbicia: 0,1%
Transmisja światła: 45%
Eliminacja światła spolaryzowanego: 99,9%
Powłoki: dwustronne, 28-warstwowe
Materiał optyczny: szkło AGC
Materiał ramki: stop aluminiowo-magnezowy
Grubość ramki: 5,3 mm
Odporność powłok: woda, olej, kurz i zarysowania
Kod produktu: KF01.2475

FAQ

Do jakich obiektywów pasuje K&F Concept Nano-X ULR MRC 55 mm? Filtr jest przeznaczony do obiektywów z gwintem filtrowym 55 mm. Przed zakupem sprawdź oznaczenie średnicy na swoim obiektywie.
Czy filtr KF01.2475 ogranicza odbicia od wody i szkła? Tak. Jako filtr CPL służy do redukcji odbić od powierzchni niemetalicznych, takich jak woda i szkło.
Czy filtr można stosować z obiektywami szerokokątnymi? Producent zastosował ramkę o grubości 5,3 mm zaprojektowaną z myślą o ograniczeniu winietowania. Rzeczywisty rezultat zależy także od konstrukcji i kąta widzenia konkretnego obiektywu.