✅ Ponad 20 lat doświadczenia — sprawdzony sprzęt i fachowe doradztwo
Filtr polaryzacyjny CPL K&F Concept Nano-X ULR MRC 58 mm (KF01.2476)
K&F Concept Nano-X ULR MRC 58 mm filtr polaryzacyjny CPL pomaga Ci ograniczyć odbicia od wody, szkła i innych powierzchni niemetalicznych oraz poprawić kontrast i nasycenie kolorów. Współczynnik odbicia 0,1% ogranicza dodatkowe refleksy i efekt halo, wspierając zachowanie czytelnego obrazu. Filtr ma średnicę 58 mm, transmisję światła 45% i dwustronne, 28-warstwowe powłoki zwiększające odporność powierzchni na wodę, olej, kurz i zarysowania. Obracana oprawa pozwala Ci regulować efekt polaryzacji odpowiednio do fotografowanej sceny.
Kod produktu: KF01.2476
Produkty uzupełniające to wygodny sposób na skompletowanie zamówienia o produkty idealnie pasujące do przeglądanego produktu!
Gdy dodasz produkt uzupełniający klikając "+ Dodaj", zostanie on zarezerwowany i poczeka aż dodasz główny produkt do koszyka. Oznacza to, że produkt komplementarny:
- Nie trafia od razu do koszyka - produkt jest tymczasowo zarezerwowany
- Zostanie dodany automatycznie gdy dodasz główny produkt do koszyka
- Możesz dodać kilka produktów - wszystkie trafią razem do koszyka
Przykład: Wybierasz fotel przeglądając jego kartę produktu, a w produktach komplementarnych zaznaczasz do kompletu poduszkę + stolik. Gdy klikniesz "Dodaj do koszyka" przy fotelu, wszystkie 3 produkty trafią razem do koszyka.
Ceny w podsumowaniu są orientacyjne i mogą się zmienić w zależności od wybranej konfiguracji głównego produktu.
Zapytaj o produkt
Administratorem danych osobowych jest BEAFOTO Spółka z o.o.. Przetwarzamy je w celu przesłania odpowiedzi na zapytanie. Więcej informacji dotyczących przetwarzania danych osobowych znajduje się w polityce prywatności.
Koszty dostawy wybranego produktu
Cena dostawy dotyczy tego produktu (w wybranym wariancie - jeśli dotyczy). Może się ona zmienić po dodaniu innych produktów do koszyka.
Udostępnianie karty produktu
Kod produktu: KF01.2476
K&F Concept Nano-X ULR MRC 58 mm – filtr polaryzacyjny CPL (KF01.2476)
K&F Concept Nano-X ULR MRC 58 mm filtr polaryzacyjny CPL jest przeznaczony dla Ciebie, jeśli chcesz ograniczać odbicia od powierzchni niemetalicznych i poprawiać wygląd kolorów już podczas wykonywania zdjęcia. Model KF01.2476 przydaje się między innymi przy fotografowaniu wody, szyb, mokrej roślinności i innych powierzchni powodujących niepożądane refleksy. Producent deklaruje współczynnik odbicia 0,1%, eliminację 99,9% światła spolaryzowanego oraz transmisję światła 45%. Seria Nano-X wykorzystuje dwustronne, 28-warstwowe powłoki zwiększające odporność powierzchni filtra na wodę, olej, kurz i zarysowania. Wariant 58 mm zamontujesz na obiektywie wyposażonym w gwint filtrowy o tej samej średnicy.
- Refleksyjność 0,1% pomaga ograniczyć dodatkowe odbicia optyczne i efekt halo.
- Eliminacja 99,9% światła spolaryzowanego wspiera skuteczne ograniczanie refleksów od powierzchni niemetalicznych.
- Transmisja światła 45% jest wartością deklarowaną przez producenta dla konstrukcji ULR CPL.
- Dwustronne powłoki 28-warstwowe zapewniają ochronę przed wodą, olejem, kurzem i zarysowaniami.
- Polaryzacja kołowa CPL umożliwia regulowanie intensywności efektu przez obracanie filtra.
K&F Concept Nano-X ULR MRC 58 mm do krajobrazu
Filtr CPL 58 mm do fotografii krajobrazowej pomaga Ci ograniczać odbicia pojawiające się na wodzie, mokrych liściach i innych powierzchniach niemetalicznych. Obracając filtr, możesz dobrać intensywność polaryzacji do kierunku światła oraz wybranego kadru. K&F Concept Nano-X ULR MRC 58 mm może dzięki temu zwiększyć czytelność kolorów i kontrast fotografowanej sceny. Efekt zależy od kąta ustawienia aparatu względem światła, dlatego warto kontrolować go bezpośrednio w wizjerze lub na ekranie.
K&F Concept Nano-X ULR MRC 58 mm i redukcja odbić
Filtr polaryzacyjny do fotografowania przez szkło przydaje się, gdy refleksy utrudniają pokazanie obiektu znajdującego się za szybą albo pod powierzchnią wody. Producent deklaruje eliminację 99,9% światła spolaryzowanego, co pozwala skuteczniej kontrolować takie odbicia. Model KF01.2476 możesz wykorzystać przy zdjęciach witryn, przeszklonej architektury, samochodów oraz krajobrazów nad wodą. Działanie polaryzacji dotyczy przede wszystkim odbić od powierzchni niemetalicznych.
Ultraniski współczynnik odbicia 0,1%
Filtr CPL o współczynniku odbicia 0,1% został opracowany z myślą o ograniczeniu refleksów powstających na powierzchniach optycznych. Według producenta bardzo niski poziom odbicia redukuje zjawisko halo i pomaga zachować wyższy kontrast oraz większą czytelność szczegółów. Jednocześnie deklarowana transmisja światła wynosi 45%. Parametry te mają znaczenie podczas fotografowania scen o dużym kontraście oraz w warunkach, w których niepożądane odbicia mogą obniżać jakość obrazu.
K&F Concept Nano-X ULR MRC 58 mm z 28 powłokami
Filtr polaryzacyjny z powłokami ochronnymi jest praktyczny podczas pracy w plenerze, gdzie powierzchnia optyczna może być narażona na wilgoć, kurz i tłuste ślady. Seria Nano-X wykorzystuje 28-warstwową technologię wielowarstwową po obu stronach filtra, zapewniającą właściwości hydrofobowe oraz odporność na olej, kurz i zarysowania. Ułatwia Ci to utrzymanie filtra w czystości podczas podróży, fotografowania nad wodą czy pracy w zmiennych warunkach pogodowych. Do pielęgnacji nadal warto stosować akcesoria przeznaczone do czyszczenia optyki.
Regulacja polaryzacji podczas fotografowania
Obrotowy filtr CPL 58 mm pozwala Ci na bieżąco dopasować stopień redukcji odbić do fotografowanej sceny. Obracając oprawę, możesz obserwować zmiany w refleksach, kontraście i nasyceniu kolorów bez konieczności zdejmowania filtra z obiektywu. Jest to szczególnie użyteczne podczas fotografii krajobrazowej, podróżniczej i architektury, gdzie kierunek padania światła może szybko się zmieniać. Najlepsze ustawienie dobierasz wizualnie na podstawie obrazu w wizjerze lub na ekranie aparatu.
Kompatybilność
Obiektywy z gwintem filtrowym 58 mm
Specyfikacja techniczna K&F Concept Nano-X ULR MRC 58 mm
- Rodzaj filtra: polaryzacyjny kołowy CPL
- Średnica filtra: 58 mm
- Współczynnik odbicia: 0,1%
- Transmisja światła: 45%
- Eliminacja światła spolaryzowanego: 99,9%
- Powłoki: dwustronne, 28-warstwowe
- Odporność powłok: woda, olej, kurz i zarysowania
- Kod produktu: KF01.2476
FAQ
- Do jakich obiektywów pasuje K&F Concept Nano-X ULR MRC 58 mm? Filtr jest przeznaczony do obiektywów z gwintem filtrowym 58 mm. Przed zakupem sprawdź oznaczenie średnicy na swoim obiektywie.
- Czy filtr KF01.2476 ogranicza odbicia od wody i szkła? Tak. Filtr CPL służy do ograniczania odbić od powierzchni niemetalicznych, takich jak woda i szkło.
- Czy można regulować intensywność działania filtra CPL? Tak. Obracając filtr, możesz dobrać stopień polaryzacji do kierunku światła i fotografowanej sceny.
Opinie
Jeśli dodałeś/-aś recenzję, a nie pojawiłą się na liście, być może oczekuje na moderację.