Cena? Prawdopodobnie najniższa

Bezpieczne płatności internetowe

Bezproblemowy zwrot do 14 dni

Przejdź do sekcji Opinie

Producent: K&F Concept (przejdź do produktów)

Filtr polaryzacyjny CPL K&F Concept Nano-X ULR MRC 72 mm (KF01.2479)

K&F Concept Nano-X ULR MRC 72 mm filtr polaryzacyjny CPL pomaga Ci ograniczyć odbicia od wody, szkła i innych powierzchni niemetalicznych oraz zwiększyć kontrast i nasycenie kolorów. Zastosowany współczynnik odbicia 0,1% pomaga redukować dodatkowe refleksy i efekt halo. Filtr ma średnicę 72 mm, transmisję światła 45% oraz dwustronne, 28-warstwowe powłoki odporne na wodę, olej, kurz i zarysowania. Smukła ramka o grubości 5,3 mm zachowuje możliwość obracania filtra, dzięki czemu możesz precyzyjnie regulować efekt polaryzacji.

Przejdź do pełnego opisu

159,00 zł

Wkrótce w sprzedaży

Weź w leasing

Przedłużona ochrona serwisowa EasyProtect®

Cena 49,00 zł

Dodaj W zestawie
Teleskop inteligentny ZWO Seestar S50 Pro

Cena 4 299,00 zł

Dodaj W zestawie
Kolimator Vector Optics Maverick Gen. II SCRD-12II

Cena 260,00 zł

Dodaj W zestawie
Canon RF 24-105 mm f/4L IS USM

Cena 4 598,00 zł

Dodaj W zestawie

Suma dodatkowych produktów: 0.00 zł

How does it work?

Zapytaj o produkt

Dostawa

od 0,00 zł - DPD Pickup (automat paczkowy | punkt odbioru) (Polska)

Udostępnij

Dlaczego my?

Eksperckie wsparcie: Zapewniamy profesjonalne, indywidualne doradztwo oparte na wieloletniej wiedzy i pasji naszego zespołu, pomagając Ci dobrać sprzęt idealnie dopasowany do Twoich potrzeb.
Zaufanie i tradycja: Jesteśmy polską firmą rodzinną działającą od 2006 roku, co daje Ci gwarancję bezpiecznych zakupów u sprawdzonego partnera, któremu zaufały tysiące klientów i instytucji.
Autoryzowana jakość: Jako autoryzowany sprzedawca wiodących światowych marek, oferujemy wyłącznie oryginalny sprzęt fotograficzny i optyczny najwyższej klasy oraz dostęp do nowości technologicznych.
Indywidualne podejście: Realizujemy nawet najbardziej nietypowe zamówienia, sprowadzając sprzęt trudnodostępny na rynku i tworząc oferty „szyte na miarę” Twoich unikalnych oczekiwań.

K&F Concept Nano-X ULR MRC 72 mm – filtr polaryzacyjny CPL (KF01.2479)

K&F Concept Nano-X ULR MRC 72 mm filtr polaryzacyjny CPL jest przeznaczony dla Ciebie, jeśli chcesz ograniczać odbicia i poprawiać wygląd kolorów już podczas wykonywania zdjęcia. Model KF01.2479 redukuje refleksy od powierzchni niemetalicznych, takich jak woda i szkło, a producent deklaruje eliminację 99,9% światła spolaryzowanego. Współczynnik odbicia wynosi 0,1%, natomiast transmisja światła 45%. Filtr wykonano ze szkła optycznego AGC i wyposażono w dwustronne, 28-warstwowe powłoki ochronne. Średnica 72 mm pozwala zamontować go bezpośrednio na obiektywie z odpowiadającym jej gwintem filtrowym.

Refleksyjność 0,1% pomaga ograniczyć dodatkowe odbicia optyczne oraz efekt halo.
Polaryzacja kołowa CPL pozwala redukować refleksy od szkła, wody i innych powierzchni niemetalicznych.
Eliminacja 99,9% światła spolaryzowanego jest wartością deklarowaną przez producenta dla KF01.2479.
28-warstwowe powłoki po obu stronach zapewniają odporność na wodę, olej, kurz i zarysowania.
Ramka o grubości 5,3 mm zachowuje możliwość obracania filtra i została przygotowana z myślą o ograniczeniu winietowania.

K&F Concept Nano-X ULR MRC 72 mm w fotografii krajobrazowej

Filtr CPL 72 mm do fotografii krajobrazowej pomaga Ci ograniczyć odbicia widoczne na wodzie, mokrej roślinności i innych niemetalicznych powierzchniach. Obracając filtr, możesz regulować intensywność polaryzacji i dopasować ją do kierunku padania światła oraz wybranego kadru. K&F Concept Nano-X ULR MRC 72 mm pozwala jednocześnie zwiększać kontrast i nasycenie kolorów, co przydaje się przy fotografowaniu nieba, zieleni czy tafli wody. Siła efektu zależy od położenia aparatu względem światła, dlatego rezultat najlepiej oceniać bezpośrednio w wizjerze lub na ekranie.

K&F Concept Nano-X ULR MRC 72 mm i redukcja odbić

Filtr polaryzacyjny do zdjęć przez szkło sprawdzi się wtedy, gdy odbicia zasłaniają obiekt znajdujący się za szybą lub pod powierzchnią wody. Konstrukcja CPL ogranicza światło spolaryzowane odbite od powierzchni niemetalicznych, a producent podaje skuteczność eliminacji na poziomie 99,9%. Możesz wykorzystać go podczas fotografowania witryn, architektury z przeszkleniami, samochodów czy krajobrazów nad wodą. Działanie polaryzacji nie usuwa w taki sam sposób odbić od powierzchni metalowych.

Ultraniska refleksyjność 0,1% i szkło AGC

Filtr CPL o refleksyjności 0,1% został zaprojektowany z myślą o ograniczaniu dodatkowych refleksów powstających na powierzchniach optycznych. Producent wskazuje, że taki poziom odbicia pomaga redukować efekt halo oraz poprawiać klarowność, kontrast i widoczność szczegółów. Element optyczny wykonano ze szkła AGC, a transmisja światła wynosi 45%. Parametry te mają praktyczne znaczenie podczas fotografowania scen o dużym kontraście oraz pracy w warunkach sprzyjających powstawaniu odblasków.

K&F Concept Nano-X ULR MRC 72 mm z 28-warstwowymi powłokami

Filtr polaryzacyjny z powłokami ochronnymi jest praktyczny podczas pracy w plenerze, gdzie powierzchnia szkła może być narażona na wodę, kurz lub tłuste ślady. W modelu KF01.2479 producent zastosował po obu stronach 28-warstwowe powłoki odporne na wodę, olej, kurz i zarysowania. Ułatwia to utrzymanie filtra w czystości podczas fotografowania w podróży, nad wodą i przy zmiennej pogodzie. Do czyszczenia nadal warto używać akcesoriów przeznaczonych do powierzchni optycznych.

Smukła ramka 5,3 mm do szerokich i długich ogniskowych

Cienki filtr CPL 72 mm do obiektywu szerokokątnego pomaga ograniczyć ryzyko pojawienia się oprawy w narożnikach kadru. Ramka ma 5,3 mm grubości i według producenta nadaje się zarówno do obiektywów szerokokątnych, jak i teleobiektywów. Zachowana możliwość obrotu pozwala Ci regulować stopień polaryzacji bez zdejmowania filtra z obiektywu. Ramkę wykonano z lekkiego stopu aluminiowo-magnezowego.

Kompatybilność

Obiektywy z gwintem filtrowym 72 mm

Specyfikacja techniczna K&F Concept Nano-X ULR MRC 72 mm

Rodzaj filtra: polaryzacyjny kołowy CPL
Średnica filtra: 72 mm
Współczynnik odbicia: 0,1%
Transmisja światła: 45%
Eliminacja światła spolaryzowanego: 99,9%
Powłoki: dwustronne, 28-warstwowe
Materiał optyczny: szkło AGC
Materiał ramki: stop aluminiowo-magnezowy
Grubość ramki: 5,3 mm
Odporność powłok: woda, olej, kurz i zarysowania
Kod produktu: KF01.2479

FAQ

Do jakich obiektywów pasuje K&F Concept Nano-X ULR MRC 72 mm? Filtr jest przeznaczony do obiektywów z gwintem filtrowym 72 mm. Przed zakupem sprawdź oznaczenie średnicy na swoim obiektywie.
Czy filtr KF01.2479 ogranicza odbicia od wody i szkła? Tak. Jako filtr CPL służy do ograniczania odbić od powierzchni niemetalicznych, takich jak woda i szkło.
Czy filtr można stosować z obiektywami szerokokątnymi? Producent zastosował ramkę o grubości 5,3 mm zaprojektowaną z myślą o ograniczeniu winietowania. Rzeczywisty rezultat zależy jednak od konstrukcji i kąta widzenia konkretnego obiektywu.