Gwarancja najniższej ceny!

Bezpieczne płatności internetowe

Bezproblemowy zwrot do 14 dni

Wysyłka 24h

Przejdź do sekcji Opinie

Producent: K&F Concept (przejdź do produktów)

Filtr UV K&F NANO-X Ultra Low MRC 77mm

Filtr UV K&F Concept NANO-X 77mm chroni przednią soczewkę obiektywu podczas zdjęć w plenerze, podróży i codziennej pracy. Dzięki 28-warstwowej powłoce MRC ogranicza wodę, olej, kurz i drobne zarysowania na powierzchni filtra. Transmisja światła ≥99,8% oraz odbicie ≤0,1% pomagają zachować ostrość i naturalne kolory. Smukła aluminiowa ramka 3,3 mm ułatwia fotografowanie szerokich kadrów bez niepotrzebnego obciążania zestawu.

Przejdź do pełnego opisu

130,13 zł

Wkrótce w sprzedaży

Weź w leasing

%
Monokular termowizyjny / nasadka Guide TA621 II generacja

2 349,00 zł

Dodaj W zestawie
%
Celownik termowizyjny PARD Pantera eX 640 LRF 50 mm - luneta z dalmierzem

11 179,00 zł

Dodaj W zestawie
Balistyczna stacja Pogodowa Kestrel 5700X WEZ

Cena 5 599,00 zł

Dodaj W zestawie
Kolimator Holosun SCS Green Dot z montażem MOS

Cena 1 849,00 zł

Dodaj W zestawie

Suma dodatkowych produktów: 0.00 zł

Zapytaj o produkt

Dostawa

od 12,50 zł - DPD Pickup (automat paczkowy | punkt odbioru) (Polska)

Udostępnij

Dlaczego my?

Eksperckie wsparcie: Zapewniamy profesjonalne, indywidualne doradztwo oparte na wieloletniej wiedzy i pasji naszego zespołu, pomagając Ci dobrać sprzęt idealnie dopasowany do Twoich potrzeb.
Zaufanie i tradycja: Jesteśmy polską firmą rodzinną działającą od 2006 roku, co daje Ci gwarancję bezpiecznych zakupów u sprawdzonego partnera, któremu zaufały tysiące klientów i instytucji.
Autoryzowana jakość: Jako autoryzowany sprzedawca wiodących światowych marek, oferujemy wyłącznie oryginalny sprzęt fotograficzny i optyczny najwyższej klasy oraz dostęp do nowości technologicznych.
Indywidualne podejście: Realizujemy nawet najbardziej nietypowe zamówienia, sprowadzając sprzęt trudnodostępny na rynku i tworząc oferty „szyte na miarę” Twoich unikalnych oczekiwań.

K&F Concept NANO-X – filtr UV Ultra Low MRC 77mm

Filtr UV K&F Concept NANO-X 77mm to praktyczna ochrona obiektywu, gdy fotografujesz w plenerze, podróży lub podczas codziennej pracy z aparatem. Model KF01.2467 wykorzystuje szkło optyczne HD oraz powłokę tytanową, która ogranicza odbicia do poziomu ≤0,1%. Dzięki transmisji światła ≥99,8% zachowujesz wysoką ostrość i naturalne kolory zdjęć. Filtr UV z powłoką MRC pomaga zabezpieczyć przednią soczewkę przed kurzem, zachlapaniem i przypadkowymi zarysowaniami. To dobry wybór, gdy chcesz mieć filtr ochronny na obiektyw 77mm bez wyraźnego wpływu na jakość obrazu.

Ograniczasz refleksy i duszki dzięki odbiciu na poziomie ≤0,1%.
Chronisz przednią soczewkę obiektywu przed kurzem, wodą, olejem i zarysowaniami.
Zachowujesz wysoką przepuszczalność światła dzięki transmisji ≥99,8%.
Korzystasz z 28-warstwowej powłoki MRC w fotografii i nagraniach 4K/8K.
Unikasz winietowania przy szerokich kadrach dzięki smukłej ramce 3,3 mm.

Ultra niskie odbicie dla czystszego kadru

Filtr UV o niskim odbiciu sprawdza się wtedy, gdy fotografujesz pod światło, na śniegu, nad wodą albo w pełnym słońcu. Powłoka tytanowa zastosowana w modelu KF01.2467 redukuje odbicia powierzchniowe do ≤0,1%, co pomaga ograniczyć flary i spadek kontrastu. W praktyce łatwiej zachowasz czytelny obraz podczas fotografii krajobrazowej, reportażowej i podróżniczej. To szczególnie przydatne, gdy nie chcesz zdejmować filtra między ujęciami.

Wysoka transmisja światła i szkło optyczne HD

Filtr UV do zdjęć w plenerze powinien chronić obiektyw, ale nie powinien zabierać jakości obrazu. K&F Concept NANO-X oferuje transmisję światła ≥99,8% oraz szkło optyczne HD, dlatego dobrze nadaje się do zdjęć i nagrań w wysokiej rozdzielczości. Podczas filmowania 4K/8K pomaga zachować ostrość i naturalne odwzorowanie kolorów. Możesz używać go na stałe jako pierwszej warstwy ochronnej przed obiektywem.

28-warstwowa powłoka MRC do pracy w terenie

Filtr UV z powłoką MRC ułatwia fotografowanie w terenie, gdzie sprzęt ma kontakt z pyłem, wilgocią i odciskami palców. 28-warstwowa powłoka Nano-X zwiększa odporność powierzchni na wodę, olej, kurz i zarysowania. Dzięki temu szybciej oczyścisz filtr po spacerze, sesji nad jeziorem albo zdjęciach w mieście po deszczu. Zabezpieczasz droższą optykę, a ewentualne zabrudzenia trafiają przede wszystkim na filtr.

Smukła aluminiowa ramka 3,3 mm

Filtr ochronny na obiektyw 77mm ma lekką aluminiową ramkę o grubości 3,3 mm, co pomaga ograniczyć ryzyko ciemnych narożników przy szerokich kadrach. Taka konstrukcja jest wygodna w podróży, bo nie zwiększa znacząco gabarytów zestawu fotograficznego. Możesz zostawić filtr na obiektywie podczas fotografowania krajobrazów, architektury i scen ulicznych. To praktyczne rozwiązanie, gdy zależy Ci na ochronie bez ciągłego montowania i zdejmowania akcesorium.

Kompatybilność

gwint filtrowy 77 mm

Specyfikacja techniczna K&F Concept NANO-X – filtr UV Ultra Low MRC 77mm

Marka: K&F Concept
Model/seria: NANO-X / Nano-Xcel Series
Kod produktu: KF01.2467
Rodzaj: filtr UV / MCUV Ultra-Low Reflection
Średnica: 77 mm
Szkło: optyczne HD
Powłoka: 28-warstwowa powłoka MRC Nano-X
Odbicie powierzchniowe: ≤0,1%
Transmisja światła: ≥99,8%
Ramka: aluminiowa, smukła
Grubość ramki: 3,3 mm
Cechy powłoki: odporność na wodę, olej, kurz i zarysowania

Zestaw K&F Concept NANO-X – filtr UV Ultra Low MRC 77mm zawiera

Filtr UV K&F Concept NANO-X Ultra Low MRC 77mm

FAQ

Czy K&F Concept NANO-X 77mm pasuje do mojego obiektywu?

Tak, jeżeli Twój obiektyw ma gwint filtrowy 77 mm. Średnicę filtra sprawdzisz zwykle na froncie obiektywu lub na dekielku, przy oznaczeniu średnicy.

Czy filtr wpływa na jakość zdjęć?

Filtr ma transmisję światła ≥99,8% i odbicie ≤0,1%, dlatego został zaprojektowany z myślą o zachowaniu ostrości oraz naturalnych kolorów. W codziennej fotografii możesz używać go jako stałej ochrony przedniej soczewki.

Do czego przydaje się filtr UV w aparacie cyfrowym?

Najczęściej pełni funkcję ochronną dla obiektywu, zabezpieczając przednią soczewkę przed kurzem, wilgocią i drobnymi zarysowaniami. Przydaje się szczególnie w podróży, plenerze i podczas fotografowania w zmiennych warunkach.