Gwarancja najniższej ceny!

Bezpieczne płatności internetowe

Bezproblemowy zwrot do 14 dni

Wysyłka 24h

Przejdź do sekcji Opinie

Producent: K&F Concept (przejdź do produktów)

Filtr UV K&F NANO-X Ultra Low MRC 55 mm

Filtr UV K&F NANO-X Ultra Low MRC 55 mm pomaga chronić obiektyw i zachować czysty obraz w codziennym fotografowaniu. Dzięki refleksyjności ≤0,1% ograniczasz flary oraz niepożądane odbicia przy pracy pod światło. Szkło optyczne HD i transmisja światła ≥99,8% wspierają ostrość, kontrast i naturalne kolory. 28-warstwowe powłoki MRC ułatwiają pracę w plenerze, chroniąc filtr przed wodą, olejem, kurzem i drobnymi zarysowaniami.

Przejdź do pełnego opisu

92,64 zł

Weź w leasing

Statyw Leofoto Urban LX-284CT+XB-38

Cena 1 299,00 zł

Dodaj W zestawie
%
Statyw Delta Tripod Carbon ST-C (z klamrą)

1 899,00 zł

Dodaj W zestawie
%
Aparat Sony A6700

5 663,00 zł

Dodaj W zestawie
%
Monokular termowizyjny / nasadka Guide TA425

1 199,00 zł

Dodaj W zestawie

Suma dodatkowych produktów: 0.00 zł

Zapytaj o produkt

Dostawa

od 12,50 zł - DPD Pickup (automat paczkowy | punkt odbioru) (Polska)

Udostępnij

Dlaczego my?

Eksperckie wsparcie: Zapewniamy profesjonalne, indywidualne doradztwo oparte na wieloletniej wiedzy i pasji naszego zespołu, pomagając Ci dobrać sprzęt idealnie dopasowany do Twoich potrzeb.
Zaufanie i tradycja: Jesteśmy polską firmą rodzinną działającą od 2006 roku, co daje Ci gwarancję bezpiecznych zakupów u sprawdzonego partnera, któremu zaufały tysiące klientów i instytucji.
Autoryzowana jakość: Jako autoryzowany sprzedawca wiodących światowych marek, oferujemy wyłącznie oryginalny sprzęt fotograficzny i optyczny najwyższej klasy oraz dostęp do nowości technologicznych.
Indywidualne podejście: Realizujemy nawet najbardziej nietypowe zamówienia, sprowadzając sprzęt trudnodostępny na rynku i tworząc oferty „szyte na miarę” Twoich unikalnych oczekiwań.

K&F NANO-X Ultra Low MRC 55 mm – filtr UV 0,1% refleksji

Filtr UV K&F NANO-X Ultra Low MRC 55mm to praktyczna ochrona obiektywu i sposób na zachowanie czystego obrazu podczas fotografowania w zmiennym świetle. Model KF01.2462 wykorzystuje szkło optyczne HD oraz wielowarstwowe powłoki MRC, które ograniczają odbicia powierzchniowe do poziomu ≤0,1%. Dzięki transmisji światła ≥99,8% filtr pomaga utrzymać ostrość, kontrast i naturalną kolorystykę zdjęć. Sprawdzi się przy codziennym fotografowaniu, w podróży, podczas filmowania oraz wtedy, gdy chcesz chronić przednią soczewkę przed kurzem, wilgocią i przypadkowym dotknięciem.

Ograniczasz refleksy i flary dzięki powłoce o refleksyjności ≤0,1%.
Zachowujesz wysoką jakość obrazu przy transmisji światła ≥99,8%.
Chronisz obiektyw przed kurzem, wodą, olejem i drobnymi zarysowaniami.
Korzystasz z filtra o średnicy 55 mm do obiektywów z takim gwintem.
Pracujesz wygodniej przy zdjęciach i materiałach wideo 4K/8K.

Ultra niska refleksyjność w jasnym świetle

Podczas fotografowania w terenie filtr UV K&F NANO-X Ultra Low MRC 55mm pomaga ograniczyć niepożądane odblaski, które często pojawiają się przy słońcu, wodzie, szkle lub jasnym niebie. Powłoka tytanowa redukuje odbicie powierzchniowe do ≤0,1%, co wspiera lepszy kontrast i mniejszą podatność na efekt duszków. W praktyce możesz swobodniej kadrować pod światło, fotografować krajobrazy, architekturę lub ujęcia miejskie bez zdejmowania filtra z obiektywu.

Szkło optyczne HD dla ostrego obrazu

Przy fotografii w podróży liczy się filtr, który chroni obiektyw, ale nie obniża jakości rejestrowanego obrazu. K&F NANO-X Ultra Low MRC 55mm wykorzystuje szkło optyczne HD, zaprojektowane z myślą o ostrości i naturalnym odwzorowaniu barw. Transmisja światła ≥99,8% pomaga zachować szczegóły przy zdjęciach krajobrazowych, portretach plenerowych i codziennych kadrach z aparatu.

28-warstwowe powłoki MRC do codziennej pracy

Do nagrywania 4K/8K w terenie przyda Ci się filtr, który radzi sobie z wilgocią, pyłem i częstym przenoszeniem sprzętu. Model KF01.2462 ma 28-warstwową powłokę wieloodporną MRC, określaną jako odporna na zarysowania, wodę, olej i kurz. Dzięki temu łatwiej utrzymasz przednią powierzchnię filtra w czystości podczas reportażu, spaceru fotograficznego lub pracy na zewnątrz.

Stała ochrona przedniej soczewki

Jako filtr ochronny do obiektywu 55 mm ten model możesz zostawić założony na co dzień, gdy zależy Ci na dodatkowej barierze przed zabrudzeniami. Filtr UV przejmuje kontakt z pyłem, kroplami i przypadkowymi śladami palców, ograniczając ryzyko czyszczenia bezpośrednio przedniej soczewki. To praktyczne rozwiązanie na wyjazdy, zdjęcia rodzinne, filmowanie wydarzeń i szybkie ujęcia, gdy sprzęt często wyjmujesz z torby.

Specyfikacja techniczna K&F NANO-X Ultra Low MRC 55mm – filtr UV 0,1% refleksji

Kod produktu: KF01.2462
Typ: filtr UV
Średnica filtra: 55 mm
Seria: K&F NANO-X
Szkło: optyczne HD
Powłoki: 28-warstwowe MRC
Refleksyjność powierzchni: ≤0,1%
Transmisja światła: ≥99,8%
Powłoka: tytanowa, hydrofobowa, oleofobowa i przeciwpyłowa
Zastosowanie: fotografia, wideo, ochrona obiektywu
Kompatybilność: Obiektywy z gwintem filtrowym 55 mm

FAQ

Czy filtr pasuje do każdego obiektywu?

Filtr pasuje do obiektywów z gwintem filtrowym 55 mm. Przed zakupem sprawdź oznaczenie średnicy na obiektywie lub dekielku.

Czy filtr wpływa na jakość zdjęć?

Filtr ma transmisję światła ≥99,8% i refleksyjność ≤0,1%, dlatego został zaprojektowany do zachowania ostrości oraz naturalnego koloru. Może być używany także przy materiałach wideo 4K/8K.